哈西奈德溶液
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药品对比

药品信息

哈西奈德溶液

复方硫黄乳膏

规格

0.001

100g
生产企业

遂成药业股份有限公司

开封制药(集团)有限公司
批准文号

国药准字H20067189

国药准字Z41022284
说明
适应症

接触性湿疹、异位性皮炎、神经性皮炎、面积不大的银屑病、硬化性萎缩性苔藓、扁平苔藓、盘状红斑性狼疮、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

解毒、杀虫、疗疮、止痒的作用。主用于疥癣、湿疹等皮肤病及脂溢性皮炎 。

用法用量

外涂患处每日早晚各一次。

外用,取本品适量,加热水溶化后,洗涤患处。洗澡时,可将本品直接搓于患处,数分钟后,用清水洗净即可。本品亦可用于洗澡、洗头。洗头时,可取本品7~10克,加适量热水溶化后淋于发上,揉搓数分钟后,用水洗净,但不应直接搓于发上,以免药物不能充分作用头皮而降低疗效。

副作用

少数患者涂药部位的皮肤发生烧灼感、刺痛、暂时性瘙痒,长期应用可发生皮肤毛细血管扩张(尤其面部)、皮肤萎缩、萎缩纹(青少年易发生)皮肤萎缩后继发紫癜、瘀斑、皮肤脆弱、多毛症、毛囊炎、粟丘疹、皮肤脱色、延缓溃疡愈合,封包法在皮肤皱褶部位容易继发真菌感染。经皮肤吸收多时,可发生全身性不良反应。

不良反应:偶见皮肤刺激,瘙痒和烧灼感。

禁忌

1.对该药过敏者。 2.由细菌、真菌、病毒和寄生虫引起的原发性皮肤病变。 3.溃疡性病变。 4.痤疮、酒渣鼻。 5.眼睑部用药(有引起青光眼的危险)。 6.渗出性皮肤病。 7.面部不宜应用。

尚不明确

成分

本品主要成份为:哈西奈德(氯氟舒松、哈西缩松)。

本品主要成份为硫磺、硼砂。

性状

本品为无色澄清液体,可微显黏性。

本品为淡黄的乳膏

注意事项

大面积大量用药或封包方式可使经皮吸收多,可发生全身反应,尤其是低龄儿童和婴幼儿,出现可逆行柯兴氏征及生长迟缓,突然停药可出现急性肾上腺皮质功能不全。出现局部不耐受现象,应停药并寻找原因。警惕留在皮肤皱褶部位和尿布中的药物可吸收入体内。

尚不明确