哈西奈德溶液
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药品对比

药品信息

哈西奈德溶液

复方克霉唑乳膏(Ⅱ)

规格

0.001

20g
生产企业

安徽艾珂尔制药有限公司

批准文号

国药准字H34020118

HC20160022
说明
适应症

接触性湿疹、异位性皮炎、神经性皮炎、面积不大的银屑病、硬化性萎缩性苔藓、扁平苔藓、盘状红斑性狼疮、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

适用于对皮质类胆固醇药物敏感的皮肤炎性疾病(如接触性皮炎、湿疹及神经性皮炎等伴发细菌或真菌感染)。

用法用量

外涂患处每日早晚各一次。

每日二次,先将患处清洗,将小量乳膏涂于患处,然后轻轻摩擦,使其充分渗入皮肤。为保证治疗各种皮肤病的疗效,用药疗程应足够,每个疗程根据个别患处及深浅情况而定或遵医生指示使用。

副作用

少数患者涂药部位的皮肤发生烧灼感、刺痛、暂时性瘙痒,长期应用可发生皮肤毛细血管扩张(尤其面部)、皮肤萎缩、萎缩纹(青少年易发生)皮肤萎缩后继发紫癜、瘀斑、皮肤脆弱、多毛症、毛囊炎、粟丘疹、皮肤脱色、延缓溃疡愈合,封包法在皮肤皱褶部位容易继发真菌感染。经皮肤吸收多时,可发生全身性不良反应。

偶见色素减退、灼痛、红斑、渗出、瘙痒等。可出现皮肤变薄,毛细血管扩张。课件皮肤干燥,多毛,萎缩纹,对皮肤感染的易感性增加等。长期用药可能会引起皮质功能亢进症,满月脸,骨质疏松等。

禁忌

1.对该药过敏者。 2.由细菌、真菌、病毒和寄生虫引起的原发性皮肤病变。 3.溃疡性病变。 4.痤疮、酒渣鼻。 5.眼睑部用药(有引起青光眼的危险)。 6.渗出性皮肤病。 7.面部不宜应用。

对本品的各成份过敏者禁用。

成分

本品主要成份为:哈西奈德(氯氟舒松、哈西缩松)。

本品为复方制剂,其主分为:每克乳膏含:二丙酸倍他米松(以倍他米松计)0.5mg 克霉唑 10mg 硫酸庆大霉素(以庆大霉素计)1.0mg。

性状

本品为无色澄清液体,可微显黏性。

本品为白色乳膏。

注意事项

大面积大量用药或封包方式可使经皮吸收多,可发生全身反应,尤其是低龄儿童和婴幼儿,出现可逆行柯兴氏征及生长迟缓,突然停药可出现急性肾上腺皮质功能不全。出现局部不耐受现象,应停药并寻找原因。警惕留在皮肤皱褶部位和尿布中的药物可吸收入体内。

长期使用倍他米松外用药物,可能会出现内服时引起的副作用。长期使用庆大霉素可能引致抗药细菌过度生长。如大面积使用本品或使用封闭性敷料,倍他米松或庆大霉素在体内的吸收将会增加而产生副作用。避免长期用于细嫩皮肤及面部,尽量避免在开放性伤口或损伤皮肤使用,如必须使用,应加倍小心。使用时如发生刺激反应或过敏反应,应停药并进行适当治疗。

请仔细阅读说明书并遵医嘱使用。